PhaseTech

Volt IR 穿透式中紅外光譜電化學反應池

產品特點

  • 專利金屬電漿(Plasmonic)薄膜電極

    採用獨家專利薄層黃金電漿電極設計,在維持優異導電性與高表面積的同時,保有透光性與單分子層級訊號增強效果(SEIRA),顯著提高光譜信噪比 (SNR)。

  • 創新穿透式幾何光路設計 (Transmission Geometry)

    突破傳統反射式光譜電化學量測限制,直接支援穿透模式,簡化對光流程並提升高動態實驗數據採集效率。

  • 標準三電極系統整合

    內建標準三電極電化學架構,支援精準控制外加電壓(Voltage Control),可深入探討電雙層(Electric Double Layer)介面電場、分子取向與動態反應機制。

  • 精巧無縫相容光路設計

    機構極致精巧,無縫相容於各式 FT-IR 光譜儀、紅外線顯微鏡、SFG 及飛秒超快光譜系統,實現跨平臺無縫整合。

  • 多維度超快光譜應用支援

    全面支援 FT-IR、中紅外瞬態吸收 (Mid-IR Transient Absorption) 與 2D IR 靜態/動態電化學光譜實驗。

規格項目 參數指標
光譜涵蓋範圍 可見光波段 (標準鍍膜約 450 – 750 nm,提供客製化範圍)
雷射重複率 最高支援 ≤ 100 kHz (Shot-by-Shot 運作)
調製能力 相位 (Phase)、振幅 (Amplitude) 與脈衝延遲 (Delay) 獨立調製
光路配置 零色散 4f 光學架構 / 全反射設計
控制介面 QuickControl 軟體介面,支援 LabVIEW™ 模組整合
主要應用領域 2D 電子光譜 (2DES)、非線性顯微成像、光合作用/蛋白質超快能量傳遞研究、光生物學相干控制