ALS
PK-3 Electrode Polishing kit 拋光套組
拋光可保持 CV/流通池工作電極的良好狀態。
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| 隨著反覆的電化學氧化還原反應實驗，實驗產物在電極表面的附著力和電子傳遞速率逐漸衰減。如果電子轉移速度變慢，氧化和還原峰值電位之間的差異將變寬。 |  |
透過拋光刷新電極表面，電子傳輸速率將再次提高。因此，峰值電位差變窄並返回理想CV。 電極：玻碳電極 |
一般工作電極的拋光
在一般拋光的情況下，建議使用氧化鋁拋光（步驟 3 和 4）。如果電極表面再生仍不起作用，請先嘗試鑽石拋光。
為確保去除附著在電極表面的氧化鋁顆粒，請使用新的氧化鋁拋光墊，將清洗後的電極稍微拋光，然後用蒸餾水沖洗電極表面並乾燥。
- 準備玻璃板，在潤濕的鑽石拋光墊上滴幾滴拋光鑽石。
- 保持 CV 電極與墊成直角，並以圓週運動進行拋光。
- 將鑽石墊更換為氧化鋁拋光墊，滴幾滴拋光氧化鋁，將電極拋光至鏡面。用蒸餾水沖洗電極表面，並風乾。
- 使用新的氧化鋁拋光墊對電極進行幾次拋光（以去除電極表面殘留的氧化鋁顆粒）。用蒸餾水沖洗電極表面，並風乾。
規格
Description
| Catalogue No. | Description |
| 013223 | PK-3 Electrode Polishing kit |
| Contents | |
| 012620 | 0.05 µm polishing alumina (20 mL) |
| 012621 | 1 µm polishing diamond (10 mL) |
| – | Alumina polishing pad (10 pcs) |
| – | Diamond polishing pad (10 pcs) |
| 013222 | Replacement glass plate for PK-3 (1 pc) |
| Polishing pad for acquisition separately | |
| 012600 | Alumina polishing pad (20 pcs) |
| 012601 | Diamond polishing pad (20 pcs) |
Option（sold separately）
| Catalogue No. | Description | Quantity | purpose |
| 012620 | 0.05 µm polishing alumina (20 mL) | 1 | For final polishing |
| 012621 | 1 µm polishing diamond (10 mL) | 1 | For intermediate polishing |
| 013234 | 6 µm polishing diamond (10mL) | 1 | For intermediate polishing |
| 012600 | Alumina polishing pad (20 pcs) | 1 | For final polishing |
| 012601 | Diamond polishing pad (20 pcs) | 1 | For intermediate polishing |
| 012610 | Coarse polishing Pad (20 pcs) | 1 | rough hewn |
| 012611 | Emery paper UF800 (20 pcs) | 1 | For PG and PFCE electrodes |
∗Do not use the polishing solution to the rough hewn polishing pad.
∗For polishing using emery paper, use only distilled water.
∗Polishing solution can not be used for the PG and PFCE electrodes.
